薄膜ターゲット・新金属

薄膜ターゲット・新金属

あらゆる可能性を無限に追求する大同の薄膜・電子部材

特殊鋼を通じて培った高度な溶解~加工技術、充実した生産設備によって素材に適した製造プロセスを確立。
時代を先取った新製品開発、技術的なグレード・アップの要求にもお応えするスパッタリングターゲットを始めとした高機能材料・電子材料をご提案して参ります。
高機能・高精度な薄膜技術、表面加工改質へのニーズが高まる中、さまざまな分野でユーザーの皆様のお役に立つ製品を提供することをお約束いたします。

  • ターゲット材
  • 新金属
ターゲット材料・蒸着材料

高純度、均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材料・蒸着材料

用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。

用途 純度 材質
磁気記録用薄膜
3N~4N
Ni
Co Fe
Ni合金
Co合金 Cr
Cr合金
   
表示用薄膜
3N~4N
Cr
Mo Ta
Ag合金
   
半導体・電子部品用薄膜
3N~6N
Mo
Ta W
Ti
Ni  
光磁気記録用薄膜
3N
Gd-Fe-Co
Tb-Fe-Co Al-Ti
Al-Cr
Al-V  
装飾用薄膜、表面硬化用薄膜
2N~3N
Ni-Cr-Mo
Zr Hf
Ti-Al
Ti-Al-V Cr
Ti
   
抵抗用薄膜
3N
Ni-Cr
Ni-V  
  • 上記以外の材質形状、パッキングプレートの制作、ボンディング加工のご要望にもお応えいたします。お気軽にご相談下さい。
新金属

耐熱性・耐食性に優れた材料および特殊合金材料

耐熱性・耐食性に優れた極限の材料として注目されている材料を、特殊鋼の製造技術を活用して製造します。


  特長 物性
タンタル
(Ta)
耐酸性が非常に高い。耐酸性はPtに次いで良い。
融点
2996℃
高温強度が高い。
比重
16.6
誘電特性が良い。
結晶型
体心立方格子
酸素、窒素等との親和力が強い (ゲッター性)。
ヤング率
18,200kgf/mm2
ニオブ
(Nb)
耐酸性はTaに次いで良い。
融点
2468℃
高温強度が高い。
比重
8.4
酸素、窒素等との親和力が強い (ゲッター性)。
結晶型
体心立方格子
ヤング率
10,700kgf/mm2
ジルコニウム(Zr)
耐食性が良く、特に、酸とアルカリに強い。
融点
1852℃
発火性が強い。
比重
6.5
中性子吸収断面積が小さい。
結晶型
稠密六方格子
ヤング率
10,100kgf/mm2
モリブデン
(Mo)
耐熱性が非常に高く、Ta、Nbよりも加工性は劣るが割安である。
融点
2610℃
比重
10.2
耐食性も良く、塩酸、溶融金属(Zn,Al,Na等)に良く耐える。
結晶型
体心立方格子
ヤング率
33,100kgf/mm2
タングステン
(W)
金属の中で融点、比重が高い。
融点
3410℃
高温強度が高い。
比重
19.3
結晶型
体心立方格子
ヤング率
41,500kgf/mm2

Hf、Vその他のレアメタルおよび合金についても、ご相談ください。

スパッタリングターゲット、密着材についても、ご相談ください。

耐食性

分類 薬品 濃度% タンタル ニオブ ジルコニウム

SUS316

ステンレス鋼

DSalloy

HC

チタン
無機酸 塩酸
≦35
硫酸
≦95
硝酸
≦68
リン酸
≦85
王水
HCl+HNO3
弗化水素酸
≦43
有機酸 酢酸
100
蟻酸
50
アルカリ 苛性ソーダ
20
40
-
塩化物 塩化第二鉄
30

塩化

ナトリウム

20℃飽和
-

塩化

マグネシウム

42
-
ガス
腐食性
塩素ガス
wet
-
塩素水
ガス飽和

※温度は室温、浸食度◎:0.13mm/年以下、○:0.13~1.3mm/年、△:1.3mm/年以上

用途例

耐食性 化学プラント(容器、バルブ配管等)、ノズル、熱電対保護管等
耐熱性 真空装置部品(ヒーター、ボート、ルツボ、ホルダー等)
その他 冷陰極管材、ゲッター材等

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