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薄膜ターゲット

合金粉末

あらゆる可能性を無限に追求する大同の薄膜・電子部材

特殊鋼を通じて培った高度な溶解~加工技術、充実した生産設備によって素材に適した製造プロセスを確立。
時代を先取った新製品開発、技術的なグレード・アップの要求にもお応えするスパッタリングターゲットを始めとした高機能材料・電子材料をご提案いたします。
高機能・高精度な薄膜技術、表面加工改質へのニーズが高まる中、さまざまな分野でユーザーの皆様のお役に立つ製品を提供することをお約束いたします。

  • ターゲット材
  • オリジナル製品

高純度、均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材料・蒸着材料

薄膜ターゲット

用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。

工程例

工程表

分野
用途例
純度
材質例
表面硬化用薄膜
工具、金型 他
~3N
Cr
Ti
C
Cr-Al
Ti-Al
WC
Cr-Al-X※
Ti-Al-X※
Zr
※X=添加元素(B,C,Co,Cr,Mo,Si,V,W,Nb,ZrNi 他)
装飾用薄膜
装飾(メガネフレーム、時計、建築内外装用等)他
~3N
Cr
Ti
Zr
TiAl合金
 
 
表示ディスプレイ用薄膜
反射防止膜 他
3N~
Nb
Si
 
 
 
 
Cu配線バリア膜用(タッチパネル、TFT) 他
3N
Ni合金
Cu合金
 
 
 
 
半導体・電子部品用薄膜
半導体メモリ、IGBT、各種蒸着材料他
~4N
Ni
Mo
Zr
Ni合金
Co合金
Fe合金
NiV合金
NiCr合金
Nb帯
  • 上記以外の材質、バッキングプレートの製造、ボンディング加工のご要望にもお応えいたします。お気軽に御相談下さい。
製品外観例

製品外観例

市場のニーズに合わせた当社オリジナル製品も開発しています。

Cu配線バリア膜用ターゲット(NCT、NNT)

用途 Cu配線バリア膜(タッチパネル、TFT)等
特徴 Cu配線の耐腐食性やITOとの密着性を向上させます。耐湿試験:60℃、90RH、500時間で変色なし。
構造 ITOフィルム使用例
バリア層(耐腐食) NCT … 20nm
配線層 Cu … 150nm
バリア層(密着) (NCT) …(20nm)
ITO層 ITO  
基板 フィルム / ガラス  

長尺Siターゲット

用途 反射防止膜、タッチパネル等
純度 5N
特徴 最大1,400ミリの板状Siターゲットです。ターゲットを分割する必要がなく、つなぎ目のない一体型ターゲットが製造できます。高抵抗品、低抵抗品ともに対応可能です。
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