特長

高純度、均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材・蒸着材料

用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。

主な用途

  • 配線
  • 耐食
  • 密着
  • 拡散防止

代表成分

スパッタリングターゲット・蒸着材料

材質 合金取扱 純度
3N5
99.95%
4N
99.99%
Mo なし (3N7)

その他の純金属(Fe4N、Ta、Zr、Hf、C(グラファイト)、WC等)バッキングプレートなど

イオンプレーティング用ターゲット

ターゲット材質
Ti Ti-Al Ti-X※ Ti-Al-X※ ※X=添加元素
(B,C,Co,Cr,Mo,Si,V,W,Nb,ZrNi 他)
Cr Cr-Al Cr-X※ Cr-Al-X※

その他の純金属(Zr、WC等)、フィラメントなど

可能製品形状

平板ターゲット材

幅50~300㎜x長さ300~3000㎜

円盤ターゲット材

Φ1~12インチ/Φ25~350㎜

円筒ターゲット材

外径100~180㎜x長さ500~2000㎜

蒸着用インゴット・ペレット

例:Φ50mm、10x10x10mm、Φ13x10m

ご使用の装置に合わせた最適な形状に加工いたします。上記寸法以外もお問い合わせ下さい。

技術データ/試験結果

工程例