特長
高純度､均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材・蒸着材料
用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。
主な用途
- 拡散防止
- 光学(高屈折)
代表成分
スパッタリングターゲット・蒸着材料
| 材質 | 合金取扱 | 純度 |
|---|---|---|
| 3N 99.9% |
||
| Nb | なし | ● |
その他の純金属(Fe4N、Ta、Zr、Hf、C(グラファイト)、WC等)バッキングプレートなど
イオンプレーティング用ターゲット
| ターゲット材質 | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| Ti | Ti-Al | Ti-X※ | Ti-Al-X※ | ※X=添加元素 (B,C,Co,Cr,Mo,Si,V,W,Nb,ZrNi 他) |
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| Cr | Cr-Al | Cr-X※ | Cr-Al-X※ | |||
その他の純金属(Zr、WC等)、フィラメントなど
可能製品形状
平板ターゲット材
幅50～300㎜ｘ長さ300～3000㎜
円盤ターゲット材
Φ1～12インチ/Φ25～350㎜
円筒ターゲット材
外径100～180㎜ｘ長さ500～2000㎜
蒸着用インゴット・ペレット
例：Φ50mm、10x10x10mm、Φ13x10m
ご使用の装置に合わせた最適な形状に加工いたします。上記寸法以外もお問い合わせ下さい。
技術データ/試験結果
工程例
製品一覧