薄膜ターゲット
薄膜ターゲット
薄膜ターゲットとは

工具、金型、FPD、半導体など幅広い分野に、スパッタリングや蒸着法など薄膜形成方法に応じた材料を提供します。

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ターゲット材・蒸着材料

高純度、均一組織、高密度、低ガス成分のターゲット材・蒸着材料

用途、製造方法、要求される性能などに応じ、さまざまなタイプのターゲット材料・蒸着材料をご用意します。

薄膜ターゲット

ラインアップ

スパッタリングターゲット・蒸着材料

材質 合金
取扱
純度 主な用途
3N
99.9%
3N5
99.95%
4N
99.99%
≧4N
≧99.99%
硬質摺動 装飾 配線 耐食 密着 拡散防止 光学
Ni あり
Ti あり (4N5) 高屈折
Cu あり
Cr あり
Al 一部 (5N5)
Si 一部 (5N) ガスバリア 低屈折
Nb なし 高屈折
Mo なし (3N7)

その他の純金属(Fe4N、Ta、Zr、Hf、C(グラファイト)、WC等)バッキングプレートなど

イオンプレーティング用ターゲット

ターゲット材質
Ti Ti-Al Ti-X※ Ti-Al-X※ ※X=添加元素
(B,C,Co,Cr,Mo,Si,V,W,Nb,ZrNi 他)
Cr Cr-Al Cr-X※ Cr-Al-X※

その他の純金属(Zr、WC等)、フィラメントなど

形状例

平板ターゲット材
平板ターゲット材
幅50~300㎜x長さ300~3000㎜
円盤ターゲット材
円盤ターゲット材
φ1~12インチ/φ25~350㎜
円筒ターゲット材
円筒ターゲット材
外径100~180㎜x長さ500~2000㎜
蒸着用インゴット・ペレット
蒸着用インゴット・ペレット
例:φ50mm、10x10x10mm、φ13x10m

ご使用の装置に合わせた最適な形状に加工いたします。上記寸法以外もお問い合わせ下さい。

工程例

工程表

薄膜ターゲット

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(土日祝、年末年始除く)
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