複素比透磁率

複素比透磁率とは、材料中に発生する磁束密度Bを、材料に印加した交流磁界Hで割ったものである。

図1に印加磁界Hと磁束密度Bの模式を示し、位相δが遅れている。図2にμ’とμ”の模式を示し、tanδは以下の式となる。